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項目需求

晶圓劃片是半導體芯片制造工藝流程中的一道必不可少的工序，是將完成的晶圓切割成小的晶片的過(guò)程，在晶圓制造中屬后道工序，跟著(zhù)晶圓直徑越來(lái)越大，芯片厚度越來(lái)越薄，對晶圓劃片設備性能的要求也越來(lái)越高。

解決方案

Akribis為客戶(hù)提供定制化有框力矩電機的解決方案，幫助客戶(hù)實(shí)現晶圓劃切過(guò)程中的角度調整。

定制力矩電機具有較低的端跳，在很大程度上地保障了劃切的效果。

電機防水處理，在切削液環(huán)境中也能夠保證電機的性能不受影響，可以持續穩定運行。

主要參數

請咨詢(xún)cust-service@akribis-sys.cn 

項目需求

隨著(zhù)圖形化和幾何結構線(xiàn)寬的縮小，晶圓加工過(guò)程需要通過(guò)高分辨率相機捕獲小的物理缺陷和高縱橫比缺陷。這就要求晶圓缺陷檢測設備具備精確且可重復的運動(dòng)控制系統，通過(guò)高精度、高速度運動(dòng)平臺配合相機同步掃描高速獲取硅片圖像，同時(shí)對運動(dòng)的整定時(shí)間也提出了較高的要求。

解決方案

●雅科貝思提供高性能XYZ堆疊高精度運動(dòng)平臺，及高性能控制系統的整套打包解決方案。

●XY軸采用Akribis專(zhuān)利設計AUM系列的無(wú)鐵芯直線(xiàn)電機，無(wú)齒槽效應，保障了低速運動(dòng)時(shí)較高的穩定性；Z軸采用特殊設計，用于光學(xué)調焦，實(shí)現運動(dòng)線(xiàn)圈低質(zhì)量和高加速度。

●在控制方面，其優(yōu)化的控制算法可以在很大程度上地將龍門(mén)平臺的性能發(fā)揮到極致，實(shí)現納米級定位和高速運動(dòng)。

主要參數

請咨詢(xún)cust-service@akribis-sys.cn

項目需求

化學(xué)機械拋光設備主要用于單晶硅片制造和芯片制造前道工藝，依托CMP技術(shù)的化學(xué)-機械動(dòng)態(tài)耦合作用原理，通過(guò)化學(xué)腐蝕與機械研磨的協(xié)同配合作用，實(shí)現晶圓表面多余材料的有效去除與全局平整度的納米級平坦化。 此工藝需要在有壓力的情況保持一定轉速運動(dòng)，對電機的運動(dòng)穩定性要求較高，否則在運動(dòng)的情況下有外力介入，會(huì )影響晶圓研磨效果，導致廢片。

解決方案

Akribis提供各種類(lèi)型的DDR電機，同時(shí)根據客戶(hù)具體應用工況進(jìn)行定制化設計。我們在半導體行業(yè)擁有很高的行業(yè)認可度，Akribis已在200mm和300mm晶圓的CMP設備上有非常成熟的應用和解決方案。針對CMP設備的DDR電機，以高扭矩密度為設計理念，用更緊湊的結構實(shí)現更高的峰值扭矩和持續扭矩；同時(shí)也優(yōu)化了鐵芯設計，使齒槽扭矩微型化，實(shí)現更小的速度波動(dòng)。

主要參數

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項目需求

在半導體硅片制造工藝拋光后，晶圓制造工藝的光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵工序前后，以及封裝工藝中，都需要清洗工序。清洗工序的技術(shù)是影響芯片成品率、品質(zhì)及可靠性重要的因素之一。 在清洗設備中，晶圓高速旋轉，對電機有更高的要求：有限的空間尺寸約束，且實(shí)際工作時(shí)頻繁高低速切換，高防護等級。

解決方案

●在特定環(huán)境，同時(shí)對某些性能指標要求不高的運動(dòng)場(chǎng)景中，雅科貝思會(huì )為客戶(hù)定制更匹配，更具性?xún)r(jià)比的DDR解決方案。

●在晶圓清洗設備專(zhuān)用的DDR電機具備高防護等級。

●大中孔設計，便于客戶(hù)線(xiàn)纜以及氣路的設計。

●優(yōu)化的鐵芯設計，實(shí)現更小的齒槽扭矩，實(shí)現更小的速度波動(dòng)。

●高速切換速度可達2500RPM。

主要參數

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項目需求

激光退火設備用于離子注入工藝之后，進(jìn)行退火，以消除晶格缺陷和消除硅結構的晶格損傷，提高晶片的結晶質(zhì)量，對運動(dòng)臺的精度和低速運動(dòng)時(shí)的速度波動(dòng)性有更高要求。

解決方案

●雅科貝思提供高性能XYZ雙驅龍門(mén)運動(dòng)平臺，及高性能控制系統的整套打包解決方案。在激光退火過(guò)程中，雅科貝思龍門(mén)平臺具有高精度和運動(dòng)穩定性。

●XYZ軸均采用Akribis專(zhuān)利設計AUM系列的無(wú)鐵芯直線(xiàn)電機，無(wú)齒槽效應，這本身就保障了低速運動(dòng)時(shí)更高的穩定性；采用特殊光柵尺，●實(shí)現更高的精度和更低的熱膨脹系數；配套高性能運動(dòng)控制器，其優(yōu)化的龍門(mén)算法可以在很大程度上地將龍門(mén)平臺的性能發(fā)揮優(yōu)勢。

主要參數

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