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晶圓清洗設備
清洗工序的技術(shù)是影響芯片成品率、品質(zhì)及可靠性重要的因素之一。
  • 項目需求
    在半導體硅片制造工藝拋光后，晶圓制造工藝的光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵工序前后，以及封裝工藝中，都需要清洗工序。清洗工序的技術(shù)是影響芯片成品率、品質(zhì)及可靠性重要的因素之一。
    在清洗設備中，晶圓高速旋轉，對電機有更高的要求：有限的空間尺寸約束，且實(shí)際工作時(shí)頻繁高低速切換，高防護等級。

  • 解決方案
    ●在特定環(huán)境，同時(shí)對某些性能指標要求不高的運動(dòng)場(chǎng)景中，雅科貝思會(huì )為客戶(hù)定制更匹配，更具性?xún)r(jià)比的DDR解決方案。

    ●在晶圓清洗設備專(zhuān)用的DDR電機具備高防護等級。

    ●大中孔設計，便于客戶(hù)線(xiàn)纜以及氣路的設計。

    ●優(yōu)化的鐵芯設計，實(shí)現更小的齒槽扭矩，實(shí)現更小的速度波動(dòng)。

    ●高速切換速度可達2500RPM。



  • 主要參數

    請咨詢(xún)cust-service@akribis-sys.cn


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